GW စီးရီး VAE အီမောလ်ရှင်း၏ စွမ်းဆောင်ရည်နှိုင်းယှဉ်မှု

နိမ့်သော ပေါ်လာရီတီ ပစ္စည်းများပေါ်တွင် ကပ်စွဲမှုစွမ်းဆောင်ရည်

PE ဖိုင်လ်ပေါ်တွင် ဖဲ့ထုတ်အားနှင့် အန္တရာယ်ကင်းသော ချိတ်ဆက်မှု – သာမေန် VAE အီမလ်ရှင်းအမျိုးအစားများနှင့် နှိုင်းယှဉ်ခြင်း

ပေါလီအက်သီလီန် (PE) ဖိုင်ယာကဲ့သို့သော နိမ့်သော ပေါလာရီတီ စူးစမ်းမှုများပေါ်တွင် ခိုင်မာသော ကပ်စွဲမှုကို ရရှိရေးမှာ မူလအားဖြင့် အလွန်ခက်ခဲပါသည်။ အဘယ်ကြောင့်ဆိုသော် ၎င်းတို့၏ မျက်နှာပုံစံ စွမ်းအားမှာ အလွန်နိမ့်ပါသည်— ပုံမှန်အားဖြင့် 31 dynes/cm သာ ရှိပါသည်။ ထုံမှုန်သော ဗိုင်နီလ် အက်စက်တိတ် အီသီလီန် (VAE) အီမူလ်ရှင်များသည် PE ပေါ်တွင် 2.5 N/cm အောက်သော ခွဲထုတ်ခြင်း အားကို များသောအားဖြင့် ပေးစေပါသည်။ ထိုသို့သော အားနည်းမှုများသည် အန္တရာယ်ဖြစ်စေသော အပြင်ပေါ်ယံ စိမ်းဝင်မှု အားနည်းခြင်းနှင့် မောလီကျူလာ ရှုပ်ထွေးမှု အားနည်းခြင်းတို့ကို ဖော်ပြပါသည်။ ထို့ထက် ပိုမိုကောင်းမွန်သော အီမူလ်ရှင်များဖြစ်သည့် GW စီရီးများမှာ အပ်ပ်စ်တ် အီမူလ်ရှင်များထက် 30% ပိုမိုကောင်းမွန်သော ခွဲထုတ်ခြင်း အား (3.2 N/cm အထက်) ကို ပေးစေပါသည်။ ထိုသို့သော အားကို ရရှိရေးအတွက် အထူးပုံစံထုတ်ထားသော ပေါလီမာ အဆောက်အအ်အား အသုံးပြုထားပါသည်။ ထိုအဆောက်အအ်အားသည် အပ်ပ်စ်တ် အပ်ပ်စ်တ် မျက်နှာပုံစံထဲသို့ ပိုမိုနက်ရှိုင်းစွာ စိမ်းဝင်နိုင်စေပါသည်။ စမ်းသပ်မှုအတွင်း ကောဟီရှင် ပျက်စီးမှု ဖြစ်ပွားခြင်းမှာ အပ်ပ်စ်တ် မျက်နှာပုံစံပေါ်တွင် ပိုမိုကောင်းမွန်သော စိမ်းဝင်မှုနှင့် မောလီကျူလာ အပ်ပ်စ်တ် အပ်ပ်စ်တ် အားဖြင့် ခိုင်မာစွာ ကပ်စွဲနေခြင်းကို အတည်ပြုပါသည်။ အရှိန်မြင့်ထားသော အသက်တာစမ်းသပ်မှုများသည်လည်း ထိုအီမူလ်ရှင်များ၏ ခိုင်မာမှုကို ပြသပါသည်။ GW စီရီးများသည် ၁၈၀ ရက်ကြာသည့် အချိန်အထိ အစပိုင်း ခွဲထုတ်ခြင်း အား၏ ၈၅% အထက်ကို ထိန်းသိမ်းနိုင်ပါသည်။ ထိုအချိန်အထိ ထုံမှုန်သော VAE အမျိုးအစားများမှာ ပုံမှန်အားဖြင့် ၆၀–၇၀% သာ ထိန်းသိမ်းနိုင်ပါသည်။

အီသီလီန်-VAM အချိုးနှင့် Tg တို့သည် မှုန်မှုန်သော မျက်နှာပုံစံများသို့ ကပ်စွဲမှုကို မည်သို့ အကောင်းဆုံးဖြစ်အောင် ပြုလုပ်ပေးသနည်း

အက်သီလီန်မှ ဗီနီလ် အက်စက်တိတ် မော်နေမာ (VAM) အချိုးသည် ဂလပ်စ် ပြောင်းလဲမှု အပူခါးမှု (Tg) နှင့် ချိုးဖောက်နိုင်သော မော်လီကျူးများ၏ လှုပ်ရှားမှုကို တိုက်ရိုက်ထိန်းချုပ်ပါသည်— အထူးသဖြင့် မှုန်းမှုမရှိသော မျက်နှာပုံများပေါ်တွင် ကပ်နေမှုကို အဓိကအားဖေးမော်ပေးသည့် အချက်များဖြစ်ပါသည်။ GW စီးရီးတွင် အက်သီလီန်ပါဝါသည် ၁၅–၁၈% အထိ သတ်မှတ်ထားပြီး Tg အပိုင်းအခြားသည် –၅°C မှ ၀°C အထိ ဖြစ်ပါသည်။ ဤအချိုးညီမှုသည် အခြားပစ္စည်းများပေါ်သို့ အက်စ်စ်ပ်ရှင် ပေးနိုင်မှုကို မြှင့်တင်ပေးသည့်အတွက် အထူးသဖြင့် အခြားပစ္စည်းများထဲသို့ စုံလင်စွာ စိမ့်ဝင်နိုင်ရန် အခွင့်အလမ်းကို ဖန်တီးပေးပါသည်။ သို့သော် အဆိုပါ အခွင့်အလမ်းကို ဖန်တီးရာတွင် ဖော်မော်လေးရှင်း၏ အခြေခံအဆောက်အအိမ် မှုန်းမှုကို ထိန်းသိမ်းပေးပါသည်။ ထို့ကြောင့် အတူတက်မှု အားကောင်းမှု (cohesive strength) နှင့် အပ်ချိန်တွင် စွမ်းအင်ကို စုပ်ယူနိုင်မှု (viscoelastic energy dissipation) တို့ကို ထိန်းသိမ်းပေးပါသည်။

Tg ကို အကောင်းဆုံးဖော်မော်လေးရှင်းပေးခြင်းဖြင့် ပေါ်လီမာ ချိုးဖောက်နိုင်သော မော်လီကျူးများသည် စွမ်းအင်နည်းသော မျက်နှာပုံများပေါ်သို့ ပုံစံအလိုက် ကူးပေါ်နိုင်မှုကို ရရှိစေပါသည်။ ထို့အပှင့် အဆိုပါ မျက်နှာပုံများပေါ်တွင် ဖြစ်ပေါ်သော ဖိအားများကို အက်စ်စ်ပ်ရှင် အတိုင်းအတာဖြင့် ဖြန့်ဖေးပေးနိုင်မှုကို ထိန်းသိမ်းပေးပါသည်။ JKR ကပ်နေမှု စမ်းသပ်မှုများဖြင့် တိုင်းတာရာတွင် အဆိုပါ ကပ်နေမှုအတွက် လုပ်ဆောင်မှုပုံစ်သည် 0.8 J/m² အထိ ရရှိပါသည်— ယင်းတန်ဖိုးသည် ပုံမှန် VAE အီမောလ်ရှင်းများ (0.57 J/m²) ထက် ၄၀% ပိုများပါသည်။

GW စီးရီး VAE အီမောလ်ရှင်း၏ ပုံစ်ဖော်မှုနှင့် ရီယိုလောဂီ

MFT၊ ပေါင်းစည်းမှုထိရောက်မှုနှင့် အသွားအလာအပေါ်မူတည်သော အထူသော အရည် (Brookfield နှင့် လှည့်ပတ်မှု အရည်သေးခြင်း တိုင်းတာမှု)

GW စီးရီးသည် <5°C ၏ အနိမ့်ဆုံးအလွှာဖွဲ့စည်းမှုအပူချိန် (MFT) ကို ပြသထားပြီး ပတ်ဝန်းကျင်အခြေအနေများတွင် ထိရောက်စွာ ပေါင်းစပ်မှုမရှိသော အလွှာဖွဲ့စည်းမှုကို ဖြစ်စေသည်။ ၎င်းသည် ပျံ့လွင့်လွယ်သော အော်ဂဲနစ်ပေါင်းစပ်ပစ္စည်းများကို မှီခိုစရာမလိုဘဲ တစ်ပြေးညီ စဉ်ဆက်မပြတ် အလွှာဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်မှုကို ပံ့ပိုးပေးသည်။ Rheological အရ၊ emulsion သည် dual-mode စွမ်းဆောင်ရည်ကို ပြသသည်- Brookfield တိုင်းတာမှုများသည် သိုလှောင်မှုနှင့် pump transfer အတွက် အကောင်းဆုံး mid-shear တည်ငြိမ်မှုကို အတည်ပြုပြီး rotational rheometry သည် မြင့်မားသော shear အောက်တွင် ထင်ရှားသော pseudoplasticity ကို ဖော်ပြသည်။ ၎င်းသည် brush လိမ်းခြင်း၊ spray atomization နှင့် roller leveling အတွက် အရေးကြီးသည်။ ၎င်း၏ shear-thinning အပြုအမူသည် မတူညီသောရာသီဥတုအခြေအနေများတွင် ဒေါင်လိုက်အလွှာများပေါ်တွင် ထိန်းချုပ်ထားသော စီးဆင်းမှုနှင့် sag resistance ကို သေချာစေသည်။

PH၊ ပေါင်းစည်းမှုအေဂျင့်များနှင့် ဘိန်ဒာအချိုးတို့၏ ဖွငေးခြင်းအချိန်နှင့် ပုံဖော်မှု အားကောင်းမှုအပေါ် သက်ရောက်မှု

ဖော်မျူလေးရှင်း ထိန်းချုပ်မှုသည် စက်မှုလုပ်ငန်းစဉ်နှင့် စွမ်းဆောင်ရည်ကို အရေးပါစွာ သက်ရောက်မှုရှိပါသည်။ pH ကို ၈.၅ မှ ၉.၂ အတွင်း ထိန်းသိမ်းခြင်းဖြင့် အရေးကြီးသော အစေးချွဲမှု (coagulation) မဖြစ်စေရန် အီမัลရှင်းကို တည်ငြိမ်စေပြီး အသုံးပြုမှုအတွက် အချိန်ကို ပိုမိုကြာရှည်စေပါသည်။ ကောလီစန် (coalescent) လိုအပ်ချက်ကို ၃% အောက်သို့ လျှော့ချထားပါသည်— ယေဘုယျ VAE အီမောလ်ရှင်းများနှင့် နှိုင်းယှဉ်ပါက သိသိသာသာ နိမ့်ပါသည်— ဤသို့ဖြင့် VOC ပါဝင်မှုကို လျှော့ချပေးပါသည်။ သို့သော် ဖော်မော်ရှင်းအလွှာ (film) ၏ အပ်စ်မှု (continuity) ကို မထိခိုက်စေဘဲ စကင်နင်း အီလက်ထရွန် မိုက်ခရိုစကော့ပီ (scanning electron microscopy) ဖြင့် စစ်ဆေးမှုအရ အလွှာအတွင်း အစိတ်အပိုင်းများ ညီညာပြီး အကွက်များ မရှိသော ပေါလီမာ ကွန်ရက်များကို တွေ့ရှိရပါသည်။ ဘိုင်ဒါ-သို့မဟုတ် အီမောလ်ရှင်း အများအားဖြင့် အသုံးပြုသည့် ပစ္စည်းများနှင့် ပိဂ်မင့် (pigment) အချိုးကို အကောင်းဆုံး ညှိပေးခြင်းဖြင့် အဆောက်အဦးဆေးသုံး အလွှာများ၏ စွမ်းဆောင်ရည်ကို ပိုမိုကောင်းမွန်စေပါသည်။ ထိုသို့ဖြင့် ပုံသောင်းမှု (flexibility) နှင့် မာကြောမှု (hardness) တို့ကို ညှိပေးခြင်းဖြင့် ပွတ်တိမ်မှု ခံနိုင်ရည် (scrub resistance) နှင့် ကွဲအက်မှုများကို ဖုံးအုပ်နိုင်မှု (crack-bridging capability) တို့ကို ပိုမိုကောင်းမွန်စေပါသည်။

ခံနိုင်ရည်နှင့် တည်ငြိမ်မှု – ပွတ်တိမ်မှု ခံနိုင်ရည်၊ ကပ်နေမှု (blocking) နှင့် သိုလှောင်ရက် စွမ်းရည်

အဆောက်အဦးဆေးသုံး အလွှာများတွင် ပွတ်တိမ်မှု ခံနိုင်ရည် – ASTM D2486 စမ်းသပ်မှု ရလဒ်များနှင့် VAE အီမောလ်ရှင်းများအတွက် စက်မှုလုပ်ငန်း စံနှုန်းများနှင့် နှိုင်းယှဉ်မှု

ASTM D2486 အရ လွတ်လပ်စွာ စမ်းသပ်မှုများအရ GW စီးရီးသည် အနည်းဆုံး ၅,၀၀၀ ကြိမ်အထိ ပုံသေဖုံစ်ခြင်းကို ခံနိုင်ရည်ရှိကြောင်း တွေ့ရှိရပါသည်။ ဤသည်မှာ အဆင့်မြင့် ဗီလ်ဒင်းအတွက် စံနှုန်းအရ ၃,၅၀၀ ကြိမ်အထိ ပုံသေဖုံစ်ခြင်းကို ခံနိုင်ရည်ရှိရန် လိုအပ်ချက်ကို ကျော်လွန်နေခြင်းဖြစ်ပါသည်။ ဤအားကောင်းမှုများသည် ပေါ်လီမာ စီးရီးများ၏ ချုပ်နှောင်မှုများ ပိုမိုများပေါ်ပေါ်လွင်လွင်ဖြစ်လာခြင်းနှင့် ကူးပေါင်းမှုသိပ်သည်းဆကို အကောင်းဆုံးအားဖော်ထုတ်ခြင်းများမှ အများကြီး တိုးတက်လာခြင်းကြောင့် ဖြစ်ပါသည်။ ထို့ကြောင့် ပုံသေဖုံစ်ခြင်းအတွင်း ပုံစံအတွင်း စုစည်းမှုကို ထိန်းသိမ်းပေးပြီး အနောက်ဘက် VAE ဘိုင်ဒာများသုံးသည့် အဆင့်နိမ့်များတွင် အဖြစ်များသည့် အရောင်အသောင်များ ထွက်ပေါ်လာခြင်း (pigment release) နှင့် မျက်နှာပုံများ ပျော့ပါးလာခြင်း (surface erosion) တို့ကို အနည်းဆုံးအထိ လျော့နည်းစေပါသည်။

ရေကို မှီခိုမှုနှင့် ရေကို မှီခိုမှုမှုနှင့် မှီခိုမှုမှု ဟော်မောနီကျေးဇူးဖြင့် ပုံသေဖုံစ်ခြင်းနှင့် ပုံသေဖုံစ်ခြင်း အကြား အဆင်မပေါက်မှုကို ဖြေရှင်းခြင်း

ရိုးရာ VAE အီမัลရှင်းများသည် အခြေခံကုန်စုပ်မှုတစ်ခုကို ရင်ဆိုင်ရသည်- ဘလောက်ခ်ခံနိုင်ရည်မြင့်မားသော ဖော်မူလေးရှင်းများ (ဥပမါ- ၅၀°C/၉၀% RH တွင် ၇၂ နာရီအထက်) ကို ဖန်တီးရာတွင် အလွန်အမင်း ရေမံမှုနည်းသော ဂုဏ်သတ္တေကြောင့် စကရပ်ခံနိုင်ရည်ကို စွန့်လွှတ်ရသည်။ GW စီးရီးသည် အထူးသဖြင့် အက်သီလီးန်–VAM အချိုးကို တိကျစွာ ညှိခြင်းဖြင့် ဤအဆန်းသစ်သော အချက်ကို ဖြေရှင်းပေးပါသည်။ ထိုသို့သော ညှိမှုသည် ရေမံမှုနည်းခြင်းနှင့် ရေမံမှုများခြင်းအကြား ထိန်းညှိထားသော အဆင့်အတန်းကို ဖန်တီးပေးသည်။ ရေမံမှုနည်းသော အပိုင်းများသည် ဘလောက်ခ်ခံနိုင်ရည်ကို ထိရောက်စွာ ပေးစေပြီး ရေမံမှုများသော အပိုင်းများသည် ရေဖြင့် အကူအညီပေးသော ကောလီရှင်း (coalescence) နှင့် အခြေခံအားဖြင့် ခံနိုင်ရည်မြင့်မားသော ဖီလ်အားကို ထိန်းသိမ်းပေးသည်။ ဤ အဏုမေးလ် အဆောက်အအုပ်သည် သိုလှောင်မှုကာလ ၁၈ လအထက် တည်ငြိမ်မှုကို ပေးစေပြီး အထူးသဖြင့် အရှိန်အဟောင်းမှု ပြောင်းလဲမှု၊ အိုးထဲတွင် အမှုန်များ စုပုံမှု သို့မဟုတ် အဆင့်ခွဲမှုများ မဖြစ်ပါ။ ထိုသို့သော အရည်အသွေးသည် စံနှုန်းအတိုင်း အီမောလ်ရှင်း တည်ငြိမ်မှု စံနှုန်းများကို ၃၀% အထက် ကောင်းမွန်စေသည်။

တည်ဆောက်ရေး၊ ထုပ်ပိုးရေးနှင့် အလွှာဖော်မှုစနစ်များတွင် အသုံးပြုမှုအလိုက် အကျေးဇူးများ

အပေါက်များရှိသော သို့မဟုတ် အပေါက်များမရှိသော မျက်နှာပုံများပေါ်တွင် စမ်းသပ်မှု ရလဒ်များ- စက္ကူအလွှာဖော်မှုတွင် ပွဲခြင်းလျော့နည်းမှုနှင့် မွေးမြူရေး အိုးများတွင် ကပ်နိုင်ရည် ထိန်းသိမ်းမှု

GW စီးရီးသည် ပေါက်ပေါက်သော နှင့် မပေါက်ပေါက်သော အခြေခံများပေါ်တွင် စိတ်ချရသော အမြင့်ဆုံး စွမ်းဆောင်ရည်ရှိသော ကပ်စွန်းမှုကို ပေးစေပါသည်။ ထို့ကြောင့် အခြေခံအများအပ်စွာအတွက် အထူးသော ဖော်မြူလေးရှင်းများ လိုအပ်မှုကို ဖယ်ရှားပေးပါသည်။ စက္ကူအပ пок်ရှင်များတွင် အရေပ်မှု (rub-off) ကို သိသိသာသာ လျော့ချပေးပါသည်။ ထို့ကြောင့် ပုံနှိပ်မှုအတိအကျမှု (print fidelity) နှင့် မျက်နှာပုံအရေပ်မှု (surface integrity) ကို ထိန်းသိမ်းပေးပါသည်။ တည်ဆောက်ရေး မှုတ်သော မော်တာများတွင် စိုထိုင်းမှုရှိသော အခြေအနေများအောက်တွင် ကပ်စွန်းမှုကို ထိန်းသိမ်းပေးပါသည်။ ထို့ကြောင့် အလွဲကပ်မှု (delamination) ဖြစ်နိုင်ခြေကို လျော့ပါသည်။ မပေါက်ပေါက်သော မျက်နှာပုံများ—ဥပမါ ပလပ်စတစ်များ နှင့် သံမဏိများပေါ်တွင် ပရိုမာ (primer) သို့မဟုတ် မျက်နှာပုံအားဖေးပေးမှု (surface activation) မလိုဘဲ ခိုင်မာပြီး ကြာရှည်သော ကပ်စွန်းမှုများကို ဖွဲ့စည်းပေးပါသည်။ ဤအမျိုးမျိုးသော အသုံးဝင်မှုများသည် အထူးရှိသော ethylene–VAM အချိုးများမှ ဆင်းသက်လာပါသည်။ ထိုအချိုးသည် ရေစိုမှု အပ်စ်ဒိုင်နမစ်များ (wetting dynamics) နှင့် ဖီလ်မှု အပ်စ်ဒိုင်နမစ်များ (film-forming behavior) ကို တစ်ပါတည်း အကောင်မွန်စေပါသည်။ ထို့ကြောင့် ထုပ်ပိုးမှု၊ ဗိသုကာနှင့် စက်မှုလုပ်ငန်း အပ်စ်ဒိုင်နမစ်များတွင် စိတ်ချရသော စွမ်းဆောင်ရည်ကို ပေးစေပါသည်။

မေးလေ့ရှိသောမေးခွန်းများ

အနိမ့်ပေါ်လာရီတီ အခြေခံများသို့ ကပ်စွန်းမှုရှိရေးကို အဘယ့်ကြောင့် ခက်ခဲသနည်း။

ပေါ်လီအီသီလီန်ကဲ့သို့သော အနိမ့်ပေါ်လာရီတီ အခြေခံများသည် မျက်နှာပုံစွမ်းအင်နိမ့်ပါသည်။ ထို့ကြောင့် မော်လီကျူလာ ရှုပ်ထွေးမှု (molecular entanglement) ကို ကန့်သတ်ပေးပါသည်။ ထို့ကြောင့် အန်တာဖေစ် (interfacial) ကပ်စွန်းမှုကို အားနည်းစေပါသည်။

GW စီးရီးသည် ပေါလီအီသီလီန် ဖိုင်လ်သို့ ကပ်စွဲမှုကို မည်သို့ မြင့်တင်ပေးပါသနည်း။

GW စီးရီးသည် အထူးပြုထားသော ပေါလီမာ အဆောက်အအုံကြောင့် အနက်သို့ ပိုမိုနက်ရှိုင်းစွာ စွဲမ်းဝင်နိုင်ပြီး ပုံမှန် VAE အီမောလ်ရှင်းများနှင့် နှိုင်းယှဉ်ပါက ခွဲထုတ်ခြင်း အား (peel strength) ၃၀% အထက် တိုးတက်မှုရရှိပါသည်။

အီသီလီန်–VAM အချိုးသည် ကပ်စွဲမှု အကောင်းဆုံးဖော်ထုတ်မှုတွင် မည်သို့သော အခန်းကဏ္ဍမှ ပါဝင်ပါသနည်း။

အီသီလီန်–VAM အချိုးသည် ဂလပ်စ် ပြောင်းလဲမှု အပူချိန် (Tg) ကို တိုက်ရိုက်အကျေးပေးပြီး ပေါလီမာ၏ ပုံစံပြောင်းလဲနိုင်မှုနှင့် စိမ်းစိမ်းသော ဂုဏ်သတ္တိများကို မြင့်တင်ပေးပါသည်။ ထိုဂုဏ်သတ္တိများသည် မှုန်းမှုန်းမှုမရှိသော မျက်နှာပုံများအတွက် အလွန်အရေးကြီးပါသည်။

GW စီးရီး၏ အဓိက ခံနိုင်ရည်ရှိမှု အကျေးပေးမှုများမှာ အဘယ်နည်း။

ခံနိုင်ရည်ရှိမှု မြင့်တင်မှုများတွင် စိုက်ပုတ်ခြင်း ၅၀၀၀ ကြိမ်အထက်၊ အလွန်မြင့်မားသော ဘလောက် ခံနိုင်ရည်နှင့် အဆင့်မှုန်းမှုမရှိဘဲ ၁၈ လ အထက် သိုလှောင်ရှိနေနိုင်မှု ပါဝင်ပါသည်။

GW စီးရီးကို မှုန်းမှုရှိသော နှင့် မှုန်းမှုမရှိသော မျက်နှာပုံများပေါ်တွင် အသုံးပြုနိုင်ပါသနည်း။

ဟုတ်ကဲ့၊ ၎င်းသည် မှုန်းမှုရှိသော နှင့် မှုန်းမှုမရှိသော မျက်နှာပုံများပေါ်တွင် တူညီသော ကပ်စွဲမှုကို ပေးစေပါသည်။ ထို့ကြောင့် မတူညီသော အခြေခံများအတွက် မတူညီသော ဖော်မူလေးရှင်းများကို အသုံးပြုရန် မလိုအပ်ပါသည်။